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研究报告

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2026年中国光刻胶市场研究及发展趋势预测

第一章光刻胶市场概述

1.1光刻胶的定义与分类

光刻胶作为一种关键性材料，在半导体制造过程中扮演着至关重要的角色。它是一种光引发性聚合物，能够通过光化学反应实现从液态到固态的转变，从而在硅片表面形成图案化的光刻膜。根据化学成分的不同，光刻胶主要分为光致抗蚀剂和光阻两种类型。其中，光致抗蚀剂在光刻过程中起到抗蚀的作用，而光阻则用于形成电路图案。

光刻胶的分类可以根据溶解度、曝光波长、感光速度等多个维度进行细分。根据溶解度，光刻胶可以分为溶剂型和非溶剂型两种。溶剂型光刻胶在使用过程中需要使用有机溶剂进行溶解，

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