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TGV的4种孔型及填充技术

随着摩尔定律的发展迟缓,微电子器件的高密度化、微型化对先进封装技术提出了更高的要求。作为2.5D/3D封装中的关键技术,与硅通孔(TSV)互连相比,玻璃通孔(TGV)中介层因其具有优良的高频电学特性、工艺简单、成本低以及可调的热膨胀系数等优点,在2.5D/3D先进封装领域受到广泛关注。

基于玻璃中介层的系统级封装示意图

一、TGV孔型

受刻蚀工艺的影响,TGV孔的形状不同,主要有以下四种类型:盲孔、垂直通孔、X型通孔以及V型通孔。

与TSV不同,TGV孔径较大,且多为通孔,电镀时间长、成本高;另一方面,与硅材料不同,由于玻璃表面平滑,与常用金属(如Cu)的黏附性较差

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