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超表面透镜的纳米压印制备工艺优化

一、引言

超表面透镜作为新型光学元件，凭借其亚波长尺度的人工微结构设计，突破了传统光学透镜的体积与功能限制，在消费电子、激光通信、生物成像等领域展现出巨大应用潜力。其核心优势在于通过精确调控光的振幅、相位和偏振特性，实现传统光学系统难以完成的功能集成，如消色差、多焦点成像等。然而，超表面透镜的大规模产业化始终面临制备技术的瓶颈——如何在保证微结构精度的前提下，实现低成本、高效率的批量生产。

纳米压印技术因其高分辨率、高一致性和低成本的特点，成为超表面透镜制备的主流工艺之一。该技术通过模板压印将微纳结构转移至基底材料，理论上可复制纳米级精度的图案。但实际生产中，