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《GBT 29844-2013用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范》专题研究报告.pptx

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    ;目录;;标准制定的行业背景与核心定位;（二）底层逻辑：图形规范与光刻工艺的适配性原理;（三）应用价值：对IC制造全产业链的指导意义;;;;;;评估图形的类型选择与设计原则;（二）关键设计参数的设定依据与范围;（三）实践设计中的优化策略与注意事项;;线宽与间距的核心标准要求;;;光刻图形常见缺陷类型与界定标准;（二）缺陷检测方法与设备适配要求;;;样品制备的标准流程与技术要求;;（三）实操难点与专家突破建

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