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第三章半导体材料制备技术;3.1晶体生长技术;2、布里奇曼法的特点;3.1.2．直拉法（Czochralski，简称CZ）;3.1.3区熔法（Floatingzone,简称FZ）;3.1.4升华法PVT;3.2多晶硅制备;1、工业硅制备
工业硅，一般是指95～99％纯度的硅，又称粗硅，或称结晶硅。原料：石英砂、焦炭;2、四氯化硅制备;3、三氯氢硅制备（西门子法）;4、精馏提纯;精馏;精馏是一种很有效的提纯手段，一次全过程，SiHCl3的纯度可从98%提纯到9个“9”到10个“9”，而且可连续生产，故精馏是SiHCl3提纯的主要方法。
;5、四氯化硅或三氯氢硅
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