石墨烯合成路径与缺陷表征技术的深度剖析.docx

石墨烯合成路径与缺陷表征技术的深度剖析

一、引言

1.1研究背景与意义

石墨烯，作为一种由单层碳原子以六边形晶格紧密排列而成的二维材料，自2004年被英国曼彻斯特大学的安德烈?盖姆（AndreGeim）和康斯坦丁?诺沃肖洛夫（KonstantinNovoselov）首次成功制备以来，便在科学界和工业界引起了广泛关注。因其独特的结构赋予了石墨烯诸多优异的性质，使其在众多领域展现出巨大的应用潜力。

从结构上看，石墨烯中的碳原子通过sp^2杂化形成稳定的共价键，构建出六边形蜂窝状晶格，这种紧密有序的排列方式是其优异性能的基础。在电学方面，石墨烯具有超高的电子迁移率，电子在其中的迁移速度可