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天线效应检测
在集成电路设计中,天线效应(AntennaEffect)是一个重要的物理验证问题。天线效应是指在集成电路制造过程中,由于金属层的长路径和大面积暴露在等离子体环境中,导致金属层上积累电荷,进而可能损坏或影响晶体管的正常工作。这种效应在多层金属布线中尤为常见,特别是在高密度集成和先进工艺节点下。因此,天线效应检测是确保集成电路可靠性和性能的重要步骤之一。
天线效应的原理
天线效应主要是由于等离子体刻蚀过程中的电荷积累引起的。在刻蚀过程中,等离子体会在金属层上积累电荷,导致电场强度增加。当电场强度超过一定阈值时,可能会击穿栅极氧化层,造成晶体管
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