磁控溅射法制备氧化钒薄膜的工艺与性能研究.docx

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2025-12-29 发布于上海
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磁控溅射法制备氧化钒薄膜的工艺与性能研究

一、引言

1.1研究背景与意义

氧化钒（VO_x）薄膜作为一种极具潜力的功能材料，近年来在众多领域引发了广泛关注与深入研究。其独特的物理化学性质，如优异的电学、光学和热学性能，使其在智能窗户、传感器、红外探测器以及电池等领域展现出巨大的应用价值。

在众多氧化钒化合物中，VO_2因具有独特的金属-绝缘体相变特性而备受瞩目。当温度达到相变温度（约68^{\circ}C）时，VO_2会从低温下的单斜绝缘相迅速转变为高温下的四方金属相。这一相变过程不仅伴随着晶体结构的变化，还会导致电学、光学等物理性质的急剧改变。例如，在相变过程中，VO_2的电导率可发生