硅基磁电薄膜：制备工艺、性能调控与应用前景探究.docx

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2025-12-31 发布于上海
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硅基磁电薄膜：制备工艺、性能调控与应用前景探究

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代电子技术飞速发展的背景下，电子器件不断朝着小型化、集成化、高性能化的方向迈进。硅基磁电薄膜作为一种关键的功能材料，在这一发展进程中占据着举足轻重的地位，其性能的优劣直接影响着众多电子器件的性能和应用范围。

从存储器领域来看，随着大数据、人工智能等技术的蓬勃发展，对存储设备的存储密度、读写速度和能耗提出了前所未有的要求。传统的存储技术面临着诸多挑战，而硅基磁电薄膜在磁随机存储器（MRAM）中的应用，为解决这些问题带来了新的契机。磁随机存储器是新一代的非易失性存储器，其利用磁性材料的不同磁化状态来存储信息。在