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毕业设计(论文)
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二零二五年静电场脑区映射
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二零二五年静电场脑区映射
摘要:随着神经科学和脑成像技术的不断发展,对大脑功能区域的了解日益深入。静电场作为一种新型脑成像技术,具有无创、实时、高分辨率等优势,为脑区映射提供了新的途径。本文旨在探讨2025年静电场脑区映射的研究进展,分析其原理、技术方法、应用领域以及存在的问题和挑战,为静电场脑区映射技术的发展提供参考。
大脑是人体最复杂的器官,其结构和功能的研究一直是神经科学领域的重要课题。近年来
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