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靶材预热控制技术：原理、应用与创新发展

一、引言

1.1研究背景与意义

在材料制备领域，靶材预热控制技术正逐步成为提升材料性能和生产效率的关键因素，发挥着举足轻重的作用。随着现代工业的飞速发展，对材料性能的要求日益严苛，靶材作为材料制备过程中的关键原料，其预热控制的精准度直接决定了最终材料的微观结构与性能表现。

在半导体制造领域，随着芯片集成度不断提高，对薄膜材料的质量和均匀性要求达到了前所未有的高度。靶材预热控制不当会导致薄膜沉积速率不稳定，进而影响薄膜的厚度均匀性和成分一致性，最终降低芯片的良品率和性能。在光学镀膜领域，靶材预热的不均匀性会造成膜层内应力分布不均，使膜层出现裂纹、剥落等缺