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集成电路原理及应用课后答案
姓名:__________考号:__________
题号
一
二
三
四
五
总分
评分
一、单选题(共10题)
1.在CMOS电路中,N沟道MOSFET和P沟道MOSFET的驱动方式有何不同?()
A.N沟道MOSFET需要正电源驱动,P沟道MOSFET需要负电源驱动
B.N沟道MOSFET需要负电源驱动,P沟道MOSFET需要正电源驱动
C.N沟道MOSFET和P沟道MOSFET都需要正电源驱动
D.N沟道MOSFET和P沟道MOSFET都需要负电源驱动
2.在数字电路中,CMOS逻辑门的主要优点是什么?()
A.速度快
B.功耗低
C.输入阻抗高
D.以上都是
3.在集成电路设计中,什么是阈值电压?()
A.MOSFET开启时的电压
B.MOSFET关闭时的电压
C.MOSFET导通时的电流
D.MOSFET截止时的电流
4.在集成电路中,什么是静态功耗?()
A.电路工作时产生的功耗
B.电路处于稳定状态时的功耗
C.电路启动时的功耗
D.电路停止工作时的功耗
5.在CMOS电路中,为什么说反相器是基本单元?()
A.反相器具有简单的结构
B.反相器具有高速的开关特性
C.反相器可以构成其他复杂的逻辑门
D.以上都是
6.在集成电路中,什么是扩散电容?()
A.源极和漏极之间的电容
B.源极和栅极之间的电容
C.栅极和漏极之间的电容
D.栅极和衬底之间的电容
7.在集成电路设计中,什么是版图设计?()
A.电路原理图的设计
B.电路实际布局的设计
C.电路仿真设计
D.电路测试设计
8.在CMOS电路中,什么是亚阈值漏电流?()
A.MOSFET开启时的漏电流
B.MOSFET关闭时的漏电流
C.MOSFET导通时的漏电流
D.MOSFET截止时的漏电流
9.在集成电路中,什么是工艺节点?()
A.集成电路的尺寸大小
B.集成电路的性能指标
C.集成电路的功耗大小
D.集成电路的成本
10.在集成电路设计中,什么是时序分析?()
A.分析电路的功耗
B.分析电路的开关速度
C.分析电路的稳定性和可靠性
D.分析电路的时序特性
二、多选题(共5题)
11.在CMOS电路中,以下哪些因素会影响电路的功耗?()
A.工作频率
B.版图设计
C.阈值电压
D.电路结构
12.在集成电路制造过程中,以下哪些工艺步骤属于光刻工艺?()
A.化学气相沉积
B.离子注入
C.光刻
D.化学腐蚀
13.在数字电路中,以下哪些逻辑门可以构成计数器?()
A.与门
B.或门
C.非门
D.触发器
14.在MOSFET中,以下哪些参数影响其开关速度?()
A.阈值电压
B.栅极长度
C.栅极宽度
D.源极和漏极之间的距离
15.在集成电路设计中,以下哪些因素会影响电路的噪声?()
A.电源波动
B.信号传输路径
C.电路布局
D.外部干扰
三、填空题(共5题)
16.MOSFET的阈值电压是指在什么电压下,MOSFET开始导通?
17.在CMOS逻辑门中,N沟道MOSFET和P沟道MOSFET的源极和漏极分别连接到电源和地的是?
18.集成电路设计中的版图设计是指将电路原理图转换为实际的?
19.在集成电路制造中,用于将电路图案转移到硅片上的关键工艺步骤是?
20.在数字电路中,用于存储一个二进制状态的基本单元是?
四、判断题(共5题)
21.MOSFET的栅极与源极之间的电容称为栅源电容。()
A.正确B.错误
22.CMOS逻辑门的功耗比TTL逻辑门低。()
A.正确B.错误
23.在集成电路制造过程中,光刻工艺是用来减小晶体管尺寸的关键步骤。()
A.正确B.错误
24.MOSFET的阈值电压越高,其开关速度越快。()
A.正确B.错误
25.在数字电路中,所有逻辑门都可以用与门和或门构成。()
A.正确B.错误
五、简单题(共5题)
26.请简述CMOS逻辑门的工作原理。
27.为什么说MOSFET是现代集成电路设计中的关键器件?
28.在集成电路制造中,光刻工艺的主要目的是什么?
29.请解释什么是集成电路的静态功耗和动态功耗?
30.在数字电路设计中,什么是时序分析?它的重要性是什么
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