2026年口腔正畸学考试题库(各地真题).docxVIP

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2026年口腔正畸学考试题库

第一部分单选题(50题)

1、Tweed-Merrifield定向力矫治技术主要强调?

A.仅使用活动矫治器

B.牙齿的整体移动和支抗控制

C.只治疗前牙问题

D.避免使用头帽

【答案】:B

2、在隐形矫治技术中,实现牙齿压低移动主要依赖于?

A.矫治器对牙冠施加的垂直向力

B.在附件上设计精密的力学结构

C.矫治器边缘的延伸

D.邻面去釉提供空间

【答案】:C

3、关于正畸治疗与颞下颌关节紊乱病的关系,目前的主流观点是?

A.正畸治疗是TMD的主要病因

B.正畸治疗可以预测性地预防TMD

C.正畸治疗与TMD的发生没有明确的因果关系

D.正畸治疗一定会导致TMD

【答案】:C

4、对于伴有牙周病的成人正畸患者,治疗的首要原则是?

A.尽快开始牙齿移动

B.在牙周炎症得到控制、进入维护期后进行

C.只进行简单的排齐

D.必须拔除所有松动牙

【答案】:B

5、患者,女,16岁,骨性II类高角病例,ANB角8°,下颌平面角陡。若选择掩饰性正畸治疗(不手术),以下哪项措施最不合适?

A.上颌拔除两颗前磨牙,内收上前牙

B.使用高位头帽J钩加强上颌支抗

C.下颌不拔牙或少量片切,配合II类牵引

D.使用功能性矫治器促进下颌生长

【答案】:D

6、正畸治疗中,防止龈炎最重要的措施是?

A.使用含氟牙膏

B.定期洁治

C.良好的菌斑控制

D.使用漱口水

【答案】:C

7、关于微种植体支抗(MIA)植入的安全区,下列哪项描述是错误的?

A.上颌颊侧,第一与第二前磨牙之间,距牙槽嵴顶6-8mm

B.上颌腭侧,中缝区

C.下颌颊侧,第一与第二磨牙之间,距牙槽嵴顶4-6mm

D.下颌舌侧,任何区域均可

【答案】:D

8、下列哪项不是早期矫治的适应症?

A.前牙反颌

B.后牙锁颌

C.个别牙轻度扭转

D.口腔不良习惯

【答案】:C

9、下列哪项是正畸治疗中最常见的牙周组织反应?

A.牙根吸收

B.牙髓坏死

C.牙龈增生

D.牙槽骨坏死

【答案】:A

10、关于正畸治疗中牙齿的整体移动,下列描述错误的是?

A.需要力偶的作用

B.牙冠和牙根向同一方向等距离移动

C.牙周膜的压力和张力分布均匀

D.比倾斜移动更容易实现

【答案】:D

11、关于开颌的病因,下列哪项描述是错误的?

A.口腔不良习惯(如吐舌)是常见原因

B.后牙槽高度发育不足可能导致前牙开颌

C.遗传因素可能起作用

D.颞下颌关节疾病一般不会导致开颌

【答案】:B

12、正畸治疗中,牙齿的压低移动相较于伸长移动更困难且风险更高,主要原因不包括?

A.压低移动的支抗需求更大

B.牙根更易接近牙槽嵴顶或下颌神经管

C.更容易引起牙根吸收

D.牙齿的生理动度在垂直向更大

【答案】:D

13、隐形矫治技术(如Invisalign)与传统固定矫治技术相比,其目前公认的主要局限性在于?

A.美观性差

B.对牙齿的三维控制,尤其是复杂的牙根移动和颌间关系调整,可能不如固定矫治精确

C.无法治疗牙列拥挤

D.治疗时间普遍更长

【答案】:B

14、关于正畸牙移动的力值,一般认为最适宜的力值范围是?

A.10-20g

B.50-100g

C.150-200g

D.300-500g

【答案】:B

15、对于一名12岁安氏II类1分类错颌(上颌前突,下颌后缩)患者,在生长发育高峰期,最适宜采用哪种矫治器进行生长改良治疗?

A.固定矫治器配合II类牵引

B.功能性矫治器(如Twin-block,Activator)

C.仅使用活动保持器

D.种植体支抗

【答案】:B

16、关于正畸治疗后的稳定性,以下因素中影响最小的是?

A.治疗结束时牙齿的位置

B.治疗后的长期保持

C.治疗中是否拔牙

D.牙龈纤维的改建完成情况

【答案】:C

17、正畸治疗中,支抗设计的主要目的是?

A.移动牙齿

B.提供施力基础

C.防止支抗牙移动

D.B和C

【答案】:D

18、正畸治疗中,牙根吸收的风险因素不包括下列哪项?

A.过大的矫治力

B.治疗前即存在牙根形态异常

C.规范的轻力矫治

D.牙齿的压入移动

【答案】:C

19、关于种植体支抗,下列描述正确的是?

A.属于绝对支抗,无任何移动

B.只能用于上颌

C.主要用于需要强支抗或传统支抗难以实现的病例

D.植入后可以立即加载矫治力

【答案】:C

20、对于骨性Ⅲ类错??畸形,其主要的颌骨关系异常是?

A.上颌骨发育不足,下颌骨发育正常或过度

B.上颌骨发育过度,下颌骨发育不足

C.上下颌骨均发育不足

D.上下颌骨均发育过度

【答案】:A

21、关于正

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