2026年口腔正畸学考试题库及参考答案【培优a卷】.docxVIP

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2026年口腔正畸学考试题库

第一部分单选题(50题)

1、在隐形矫治技术中,实现牙齿压低移动的主要难点在于?

A.矫治器无法提供足够的压低力

B.矫治器与牙齿的贴合度在压低时易丧失,导致力量表达效率低

C.无法精确控制压低量

D.容易导致牙根吸收

【答案】:B

2、对于一名伴有严重上颌横向发育不足(腭盖高拱,后牙反颌)的青少年患者,在快速扩弓(RPE)治疗中,其矫治力的作用机制主要是?

A.牙齿的颊向倾斜移动

B.腭中缝的打开及骨骼增宽,伴随牙齿的移动

C.仅使牙槽骨发生改建

D.压低后牙

【答案】:B

3、在隐形矫治技术中,为保证牙齿移动的可预测性,通常对每一步移动量进行限制。目前主流技术对单步牙齿移动量的限制主要在哪个范围?

A.0.1-0.2mm

B.0.25-0.33mm

C.0.5-1.0mm

D.1.0-2.0mm

【答案】:B

4、安氏错颌分类法是基于什么关系进行分类的?

A.上下颌第一磨牙的咬合关系

B.上下颌尖牙的咬合关系

C.上下颌切牙的覆颌覆盖关系

D.上下颌骨的前后向关系

【答案】:A

5、Angle错颌分类法中,上颌第一恒磨牙的近中颊尖咬合于下颌第一恒磨牙的近中颊沟,属于哪一类?

A.I类错颌

B.II类错颌

C.III类错颌

D.正常颌

【答案】:A

6、在成人正畸治疗中,需要特别关注的问题不包括?

A.牙周健康状况

B.颞下颌关节状况

C.颌骨生长潜力

D.修复体的存在

【答案】:C

7、功能性矫治器主要适用于?

A.成年骨性错颌畸形

B.生长发育高峰期或高峰前期的儿童功能性或轻度骨性错颌

C.单纯牙列拥挤的排齐

D.所有年龄段的深覆颌

【答案】:B

8、安氏I类错颌是指?

A.磨牙为中性关系,前牙为深覆盖

B.磨牙为近中关系

C.磨牙为中性关系

D.磨牙为远中关系

【答案】:C

9、对于严重骨性II类错颌伴有上颌前突的成年患者,首选的治疗方案通常是?

A.单纯固定矫治

B.功能性矫治器治疗

C.正畸-正颌外科联合治疗

D.仅进行牙齿修复

【答案】:C

10、关于正畸牙移动的透明样变,以下描述正确的是?

A.是一种可逆的病理改变

B.主要发生在牙槽嵴顶

C.在轻力作用下更容易发生

D.其发生意味着牙周组织对力的理想反应

【答案】:A

11、对于成人严重骨性III类错颌畸形,且无生长潜力,首选的治疗方案是?

A.单纯正畸掩饰性治疗

B.正畸-正颌外科联合治疗

C.功能性矫治器治疗

D.长期使用前方牵引

【答案】:B

12、关于正畸治疗中牙周组织的反应,下列哪项是正确的?

A.压力侧牙槽骨吸收,张力侧牙槽骨增生

B.压力侧牙槽骨增生,张力侧牙槽骨吸收

C.压力侧和张力侧牙槽骨均吸收

D.压力侧和张力侧牙槽骨均增生

【答案】:A

13、正畸治疗中,使用镍钛弓丝的主要目的是?

A.提供重力和快速移动牙齿

B.提供轻而持续的力并排齐牙齿

C.用于精细调整

D.用于保持阶段

【答案】:B

14、在正畸牙移动的初始阶段,牙周膜产生的压力侧变化主要是?

A.血管扩张,血流量增加

B.玻璃样变

C.直接骨吸收

D.成骨细胞活跃

【答案】:B

15、关于正畸治疗后的保持,下列说法正确的是?

A.所有患者都需要终身佩戴保持器

B.保持时间与错颌类型、矫治方法无关

C.保持的目的是防止复发,稳定矫治效果

D.拆除矫治器后牙齿位置不会再发生变化

【答案】:C

16、安氏I类错颌的特征是?

A.上颌第一恒磨牙近中颊尖咬合于下颌第一恒磨牙近中颊沟

B.上颌第一恒磨牙近中颊尖咬合于下颌第一恒磨牙与第二前磨牙之间

C.上颌第一恒磨牙近中颊尖咬合于下颌第一恒磨牙远中颊沟

D.以上都不是

【答案】:A

17、下列哪项不是早期矫治的主要目标?

A.消除病因

B.引导颌面正常发育

C.建立完美的恒牙列咬合

D.为恒牙萌出创造空间

【答案】:C

18、关于正畸治疗与牙周健康的关系,正确的是?

A.正畸治疗必然导致牙龈炎

B.良好的口腔卫生下,正畸治疗不会加重牙周炎

C.活动期牙周炎是正畸治疗的绝对禁忌症

D.正畸治疗对牙周组织只有负面影响

【答案】:B

19、正畸治疗中,支抗设计的主要目的是?

A.移动牙齿

B.提供施力基础

C.防止支抗牙移动

D.B和C

【答案】:D

20、关于正畸治疗后的保持,下列哪项描述最准确?

A.不需要保持

B.保持时间与治疗时间相同

C.保持是必要的,时间因人而异

D.只有拔牙病例需要保持

【答案】:C

21、下列哪项是正畸治疗中牙根吸收的危险因素?

A.治疗前牙根形态异常

B.过大的矫治力

C.

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