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国家标准

300mm硅片表面纳米形貌的评价方法

编制说明

（征求意见稿）

标准编制组

二〇二五年九月

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一、工作简况

1.立项目的和意义

目前，半导体材料特别是大直径硅片的技术、设备、市场被国外垄断，不仅

阻碍了国内集成电路产业的发展，更严重威胁国家信息安全。以半导体硅片为例，

截至2024年，中国8英寸硅片的国产化率约20%-30%，即进口依赖度达

70%-80%1213%87%

。中国英寸硅片国产化率仅，进口依赖度达。尤其在当前

国际形势下，保障国家集成电路产业供应本土化的需求越为迫切。

7nm5nm

随着半导体制造进入纳米级工艺节点（如、及以下），硅片表

面纳米形貌（空间波长0.2mm-20mm）对光刻焦深、薄膜沉积均匀性及器件性能

的影响日益显著。当前国内缺乏针对300mm硅片纳米形貌的统一评价标准，导

致产业链上下游数据可比性差，亟需通过本标准规范测试方法。行业反馈显示，

不同企业使用的测试设备（如几何参数测试系统）、滤波算法（如双高斯高通滤

波器）及数据分析流程存在差异，直接影响纳米形貌的测量结果一致性。本标准

2/mm

通过统一技术参数（如空间分辨率≥点）、滤波器类型和数据处理流程，

消除企业间数据壁垒。300mm硅片是逻辑芯片、DRAM及3DNAND制造的核

心基材。表面纳米形貌异常会导致：光刻阶段局部失焦，引起图形畸变；外延生

CMP

长缺陷密度升高；化学机械抛光（）不均匀性加剧；

本标准通过量化评价0.2mm-20mm波长范围内的非平面偏差，为硅片供应

fab

商与厂提供关键质量判据。

2.任务来源

根据《国家标准化管理委员会关于下达2025年推荐性国家标准修订计划及

相关标准外文版计划的通知》（国标委发[2025]号）的要求，由山东有研半导

体材料有限公司牵头制定国家标准《300mm硅片表面纳米形貌的评价方法)》，

计划编号T-469,要求于2026年12月完成。

3.主要起草单位和工作成员及其所做的工作

3.1主要起草单位情况

山东有研半导体材料有限公司（山东有研）成立于2018年8月，由有研半

导体硅材料股份公司和德州经济技术开发区景泰投资有限公司共同出资成立，注

册资本150000万元。2019年有研半导体硅材料股份公司的主体生产线由北京搬

2

迁至山东德州后，山东有研承接有研半导体硅材料股份公司的资产和业务，公司

主营业务是半导体材料及其他新材料的研发、生产、销售、贸易。主要产品包括

数字集成电路用（6～12）英寸硅单晶及硅片、功率集成电路用（6～8）英寸硅

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片、（～）英寸区熔硅单晶及硅片、集成电路设备用超大直径硅单晶及硅部件

等，产品可应用于集成电路、功率器件、太阳能等多个领域，远销美国、日本、

韩国、台湾等多个地区，在国内外市场具有较高的知名度和影响力。其投资控股

公司有研半导体硅材料股份公司（以下简称“有研硅”）成立于2001年6月，

系中央企业有研科技集团有限公司（以下简称“有研科技集团”）的下属公司，

注册资本130161万元人民币。有研半导体是国家级高新技术企业和首批国家技

术创新示范企业，拥有半导体材料国家工程研究中心、国家企业技术中心，共建

了国家有色金属及电子材料分析测试中心，位于北京市高新技术产业云集的中关

村科技园区，员工七百余人，拥有整套具有自主知识产权的半导