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2026年新版青岛京东方测试题.doc

2026年新版青岛京东方测试题.doc

    2026年新版青岛京东方测试题

    一、单选题（总共10题，每题2分）

    1.在半导体制造过程中，以下哪项技术主要用于提升晶体管的开关速度？

    A.光刻技术

    B.扩散技术

    C.沉积技术

    D.掺杂技术

    2.集成电路的制造过程中，哪一步骤是形成电路图案的关键？

    A.晶体生长

    B.外延生长

    C.光刻

    D.晶圆切割

    3.在CMOS电路设计中，PMOS和NMOS晶体管的互补特性主要用于实现什么功能？

    A.放大信号

    B.开关控制

    C.滤波信号

    D.生成时钟信号

    4.半导体器件的阈值电压（Vth）主要受以下哪个因素影响？

    A.晶体管尺寸

    B.掺杂浓度

    C.工作温度

    D.材

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