2026年口腔正畸学考试题库(夺冠系列).docxVIP

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2026年口腔正畸学考试题库

第一部分单选题(50题)

1、关于正畸治疗中牙周组织的反应,下列哪项是正确的?

A.压力侧牙槽骨吸收,张力侧牙槽骨增生

B.压力侧牙槽骨增生,张力侧牙槽骨吸收

C.压力侧和张力侧牙槽骨均吸收

D.压力侧和张力侧牙槽骨均增生

【答案】:A

2、在正畸治疗中,通常所说的“支抗”是指?

A.移动牙齿所需的力量

B.抵抗矫治力反作用的部位

C.矫治器的固位部分

D.牙齿移动的方向

【答案】:B

3、下列哪项是正畸治疗中牙根吸收的危险因素?

A.治疗前牙根形态异常

B.过大的矫治力

C.治疗时间过长

D.以上都是

【答案】:D

4、在成人正畸治疗中,需要特别关注的问题不包括?

A.牙周健康状况

B.颞下颌关节状况

C.颌骨生长潜力

D.修复体的存在

【答案】:C

5、关于正畸治疗中颞下颌关节问题的处理,下列哪项描述最准确?

A.正畸治疗是TMD的主要治疗方法

B.正畸治疗可能诱发或加重TMD

C.正畸治疗与TMD无关

D.所有TMD患者都应先进行正畸治疗

【答案】:B

6、关于正畸治疗中牙根吸收的描述,下列哪项是正确的?

A.所有正畸患者都会发生明显的牙根吸收

B.牙根吸收与矫治力大小无关

C.轻微的牙根吸收在正畸治疗中较为常见

D.牙根吸收是不可逆的

【答案】:C

7、关于正畸治疗后的稳定性,下列哪项因素影响最小?

A.治疗结束时牙齿的位置

B.牙弓形态的协调性

C.患者治疗前的年龄

D.口周肌肉功能的平衡

【答案】:C

8、关于微种植体支抗(MIA)的应用,下列哪项是错误的?

A.提供绝对支抗

B.适用于骨量不足区域

C.植入部位主要在腭中缝

D.可辅助内收前牙

【答案】:C

9、在正畸治疗中,实现上颌磨牙的远中移动,下列哪种方法提供的支抗最强?

A.Nance弓

B.横腭杆

C.种植体支抗

D.II类牵引

【答案】:C

10、正畸治疗中,使用镍钛弓丝的主要目的是?

A.提供重力和快速移动牙齿

B.提供轻而持续的力并排齐牙齿

C.用于精细调整

D.用于保持阶段

【答案】:B

11、下列哪项不是早期矫治的适应症?

A.前牙反颌

B.后牙锁颌

C.个别牙轻度扭转

D.口腔不良习惯

【答案】:C

12、下列哪项是正畸-正颌联合治疗的主要适应症?

A.轻度骨性畸形

B.重度骨性畸形,生长潜力已耗尽

C.所有安氏II类错颌

D.单纯牙性拥挤

【答案】:B

13、下列哪种错颌畸形最有可能需要正颌外科手术联合治疗?

A.安氏II类1分类,下颌后缩,生长潜力已尽

B.安氏I类,轻度拥挤

C.安氏III类,功能性反颌

D.安氏II类2分类,深覆颌

【答案】:A

14、关于正畸治疗中牙周组织的反应,下列哪项描述最准确?

A.适宜的力主要引起牙槽骨的直接吸收

B.压力侧牙周膜血管扩张,成骨细胞活跃

C.张力侧牙周膜受压缩,破骨细胞活跃

D.适宜的力引起压力侧牙槽骨间接吸收(潜掘式吸收)

【答案】:D

15、关于方丝弓矫治技术,下列描述错误的是?

A.使用方形弓丝

B.强调牙齿的三维方向控制

C.托槽槽沟为方形

D.主要依靠弓丝的形变产生矫治力

【答案】:C

16、关于正畸治疗中牙根吸收的风险,以下说法正确的是?

A.所有正畸患者都会发生明显的牙根吸收

B.牙根吸收与矫治力大小和持续时间无关

C.某些个体可能存在牙根吸收的易感性

D.牙根吸收无法通过影像学检查发现

【答案】:C

17、正畸治疗中,保持阶段的主要目的是?

A.防止复发

B.促进牙周组织改建

C.调整咬合关系

D.以上都是

【答案】:D

18、在正畸-正颌联合治疗中,关于手术时机的选择,下列哪项描述最准确?

A.生长发育高峰期前

B.生长发育高峰期

C.生长发育完成后

D.任何时期均可

【答案】:C

19、在正畸-正颌联合治疗中,关于手术时机的选择,最关键的依据是?

A.患者年龄

B.牙齿排列情况

C.颌骨生长发育是否停止

D.患者的主观意愿

【答案】:C

20、关于混合牙列期错颌的早期矫治,下列哪项是正确的?

A.所有错颌都应早期矫治

B.主要针对颌骨关系不调

C.主要针对牙列拥挤

D.主要针对个别牙错位

【答案】:B

21、关于保持阶段,下列描述错误的是?

A.是正畸治疗的必要阶段

B.目的是防止复发

C.所有患者都需要终身保持

D.常用的保持器有Hawley保持器、压膜保持器等

【答案】:C

22、在隐形矫治技术中,实现牙齿移动的主要设计策略“附件”的主要作用不包括?

A.增强矫治器固位

B.提供施力点,实现更复杂的牙齿移动(如控根移动)

C.

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