半导体超纯水设备技术与维护解析资料下载.pdf

半导体超纯水设备技术与维护解析资料下载.pdf

  1. 1、本文档内容版权归属内容提供方,所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议,可选择认领,认领后既往收益都归您。。
  2. 2、本文档由用户上传,本站不保证质量和数量令人满意,可能有诸多瑕疵,付费之前,请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形,可联系本站下载客服投诉处理。
  3. 3、文档侵权举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多

半导体超纯水设备技术与维护解析资料下

超纯水设备是可以完全去除水中的导电介质,以可以将水

中的有机物质、不溶解的胶体物质和其化杂质去除的高性能水

处理设备。在半导体材料、蓄电池、线路板等电子行业应用的

非常广泛。本文将主要介绍半导体超纯水设备工艺流程、技术

优势与维护清洗。

半导体超纯水设备工艺流程

半导体超纯水设备由反渗透设备与EDI设备相结合,是一种环

保、经济、发展潜力巨大的最新超纯水制备工艺。

该技术指导由莱特莱德厂家提供

工艺流程为:原水→多

文档评论(0)

186****0576 + 关注
实名认证
内容提供者

该用户很懒,什么也没介绍

版权声明书
用户编号:5013000222000100

1亿VIP精品文档

相关文档