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化学气相沉积仿真
引言
化学气相沉积（ChemicalVaporDeposition,CVD）是一种在气体环境中通过化学反应将材料沉积在基底表面的技术。CVD广泛应用于微电子制造中，用于形成薄膜材料，如多晶硅、二氧化硅、氮化硅等。在微电子制造工艺仿真中，CVD仿真是一个重要的环节，它可以帮助工程师和研究人员优化工艺参数，提高薄膜的质量和生产效率。本节将详细介绍CVD仿真原理和实现方法，并提供具体的软件开发示例。
CVD的基本原理
化学气相沉积的基本原理是利用气相中的化学反应在基底表面生成固态薄膜。具体过程如下：
前驱体气体的引入：将含有沉积材料的前
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