第二章-薄膜制备的物理方法-精品.pptVIP

第二章薄膜制备的物理方法;物理气相沉积;第二章薄膜制备的物理方法;真空蒸发镀膜法（简称真空蒸镀）是在真空环境下，加热蒸发源材料，使其原子或分子从表面汽化逸出，形成蒸汽流，入射到衬底（基片）表面，凝结形成固态薄膜的方法。

由于真空蒸发法主要物理过程是通过加热蒸发材料而产生，所以又称热蒸发法。

采用这种方法制备薄膜已有几十年的历史，用途十分广泛。近年来，该方法的主要改进是蒸发源上。;5;真空蒸发镀膜法是应用最广泛的薄膜制备技术，其简单便利、操作容易、成膜速度快、效率高；但制备的薄膜与基片结合较差，工艺重复性不好，不容易获得结晶结构的薄膜。;7;上述过程都必须在空气非常稀薄的真空环