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特气制备

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二氯二氢硅的制备

化工部光明化工研究所杜继勘

一若围内自有充足货源，按l000万块电路需

、刖舌

要400公斤二氯二氢硅计算，1990年预计

四氯化硅在半导体工业中作为外延淀积生产2亿块电路，则需8吨二氯二氢硅。因

硅源，虽然工艺早巳趋于完善，但至今存在此，我们开发该产品势在必行。

无法克服的技术问题，如外延淀积瑛不均匀2．国外现状

等。有人从硅源的原料进行改革，即以二氯对于电子工业用二氯二氢硅的制备，在

二氢硅来代替四氯化硅，经试验，有如下特5O年代，国外就开始了研究，但规模都不

点“。大。J擅着电子工业的飞速发展，对它的需要

1．相对说来，温度的变化对淀积率影量不断增加。目前，许多国家已有年产吨级

响不灵敏。以上的工厂，尤其是美国，为了提高产量和

2．生长率接近一级反应。降低成本，着手改革生产工艺，即采用联台

3．生长高质量的外延膜时，其温度比工艺方法。在获取生产二氯二氢硅作为硅源

用四氯化硅低1O0。C。材料工厂的成本分析数据中，采用此法模拟

4．转换成硅的比率比用四氯化硅高。设计了一座年产9780吨的工厂，得出的二氯

5．生长率不取决于掺杂水平。二氢硅售价可降到每公斤1．29～1．47美元

6．由于在室温下是气体(沸点为(1980年)0。

8．2。C)，所以，不存在象四氯化硅由鼓泡现国外二氯二氢硅的纯度列于表1。

所带来的不准确性和机械问题。

二氯二氢硅具有上述优越性，它的开发三、二氯二氢硅的几种

必将带来经济效益。主要制备方法

二、国内外状况二氯二氧硅的制备分两步，第一步是发

生，第二步是纯化。

1．国内现状1．发生方法

国内目前尚无生产二氯二氢硅的厂家，发生是制备二氯二氢硅的关键。至今，

使用单位只好依靠进口。由于国内无货可仍有许多人在研究发生方法，其目的是为了

供，故对其需求量不大。据调查，1984年提高二氯二氢硅的产率。下面介绍几种发生

全国用量为170公斤，1985年为190公斤。方法。

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