2026秋招：北方华创真题及答案.docVIP

2026秋招：北方华创真题及答案

单项选择题（每题2分，共10题）

1.半导体制造中光刻的主要作用是？

A.去除杂质B.图形转移C.增强导电性D.提高硬度

2.以下哪种气体常用于化学气相沉积（CVD）？

A.氮气B.氢气C.氧气D.硅烷

3.集成电路制造中，晶圆的主要材料是？

A.锗B.硅C.砷化镓D.碳化硅

4.刻蚀工艺分为干法刻蚀和？

A.化学刻蚀B.湿法刻蚀C.物理刻蚀D.等离子刻蚀

5.半导体器件中，PN结具有什么特性？

A.双向导电B.单向导电C.绝缘D.超导

6.北方华创主要业务领域不包括？

A.半导体装备B.新能源汽车C.真空装备D.锂电装备

7.以下哪种设备不属于北方华创的产品？

A.光刻机B.刻蚀机C.氧化炉D.清洗机

8.半导体芯片制造流程中，光刻之后的工序通常是？

A.沉积B.刻蚀C.掺杂D.抛光

9.北方华创在行业内的地位是？

A.领先企业B.一般企业C.新兴企业D.边缘企业

10.提高半导体芯片性能的关键因素不包括？

A.增大芯片尺寸B.减小制程尺寸C.优化电路设计D.提高材料纯度

多项选择题（每题2分，共10题）

1.半导体制造的主要工艺步骤包括？

A.光刻B.刻蚀C.沉积D.掺杂

2.北方华创的产品优势有？

A.技术先进B.质量可靠C.价格低廉D.服务完善

3.半导体材料的特性有？

A.导电性介于导体和绝缘体之间B.热敏性C.光敏性D.掺杂性

4.刻蚀工艺的影响因素有？

A.刻蚀气体B.刻蚀温度C.刻蚀时间D.晶圆材质

5.北方华创的市场竞争力体现在？

A.产品种类丰富B.研发能力强C.客户资源广泛D.品牌知名度高

6.以下属于半导体设备的有？

A.光刻机B.刻蚀机C.离子注入机D.化学机械抛光机

7.半导体制造中常用的气体有？

A.氩气B.氦气C.氯气D.氟气

8.提高半导体芯片良品率的方法有？

A.优化工艺B.加强检测C.改善环境D.降低成本

9.北方华创在哪些方面进行技术创新？

A.设备性能B.工艺方法C.材料应用D.商业模式

10.半导体产业的发展趋势包括？

A.集成度提高B.功耗降低C.速度加快D.应用领域拓展

判断题（每题2分，共10题）

1.北方华创是一家专注于半导体装备制造的企业。（）

2.光刻工艺可以将电路图形精确转移到晶圆上。（）

3.干法刻蚀相比湿法刻蚀具有更好的刻蚀精度。（）

4.半导体材料的导电性不受温度影响。（）

5.北方华创的产品只在国内市场销售。（）

6.芯片制造过程中，掺杂工艺可以改变半导体的电学性能。（）

7.刻蚀机是用于去除晶圆表面多余材料的设备。（）

8.半导体产业的发展与科技进步密切相关。（）

9.北方华创不涉及新能源相关设备的研发。（）

10.芯片的制程尺寸越小，性能越差。（）

简答题（每题5分，共4题）

1.简述北方华创在半导体装备行业的主要优势。

技术先进，研发能力强，能推出高性能设备；产品种类丰富，覆盖多环节；质量可靠，服务完善，有良好客户资源和品牌知名度。

2.半导体刻蚀工艺的作用是什么？

刻蚀工艺可将光刻出的图形精确地转移到晶圆表面，去除不需要的半导体材料，形成所需的电路结构和器件图形，保障芯片制造准确性。

3.列举三种北方华创的主要产品。

主要产品有刻蚀机，用于去除多余材料；氧化炉，可实现氧化工艺；清洗机，能清洁晶圆表面杂质。

4.提高半导体芯片性能的常用方法有哪些？

常用方法有减小制程尺寸、优化电路设计、提高材料纯度、改善散热设计等，以此提升芯片速度、降低功耗、增强稳定性。

讨论题（每题5分，共4题）

1.讨论北方华创面临的市场竞争压力及应对策略。

压力：国际巨头技术领先、国内同行竞争。策略：加大研发投入，提升技术；拓展市场，加强品牌建设；完善服务，提高客户满意度。

2.分析半导体产业发展对北方华创的机遇和挑战。

机遇：需求增长，技术创新带来新市场。挑战：技术更新快，研发成本高，人才竞争激烈。需紧跟趋势，加大研发，吸引人才。

3.探讨北方华创在技术创新方面的重要性和途径。

重要性：提升竞争力，满足产业需求。途径：加大研发投入，与科研机构合作；培养人才，引进先进技术；关注行业动态，自