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光学镀膜习题试卷及答案

考试时间：______分钟总分：______分姓名：______

一、单项选择题（每题2分，共20分。下列每小题的四个选项中，只有一项是最符合题意的，请将正确选项前的字母填在题后的括号内。）

1.在光学薄膜设计计算中，定义光学厚度为（）。

A.薄膜折射率与膜厚的乘积

B.薄膜厚度与该波长介质折射率的乘积

C.薄膜厚度与该波长入射光真空波长的乘积

D.薄膜厚度与该波长入射光介质波长的乘积

2.下列哪种光学薄膜能够在特定波长处实现高透射率？（）

A.高反膜

B.增透膜

C.分色膜

D.漫射膜

3.磁控溅射技术相比于真空蒸发技术，其主要优点之一是（）。

A.膜层均匀性好，尤其适用于大面积基板

B.能沉积所有材料

C.沉积速率更快

D.设备结构更简单

4.光学薄膜产生增透效果的主要物理原理是（）。

A.利用干涉效应增强反射

B.利用衍射效应改变光路

C.通过多层膜系在界面处产生相消干涉，降低反射率

D.通过选择高折射率材料提高透射

5.下列哪种材料通常不适合用作光学高反膜层？（）

A.钽（Ta）

B.氮化硅（SiNsubx/sub）

C.氧化硅（SiOsub2/sub）

D.铝（Al）

6.在光学薄膜沉积过程中，膜层厚度不均匀的主要原因可能是（）。

A.基板温度不均匀

B.沉积源发射功率不稳定

C.真空度波动

D.以上所有因素

7.衡量光学薄膜附着力好坏的常用方法之一是（）。

A.盐雾测试

B.拉拔测试

C.硬度测试

D.光学透过率测量

8.中心波长为500nm的空气/薄膜/玻璃三层高反膜系，若薄膜折射率为2.0，玻璃基底折射率为1.5，则该薄膜在500nm处的光学厚度应为（）。

A.100nm

B.250nm

C.500nm

D.625nm

9.导致光学薄膜产生眩光或雾度的主要原因是（）。

A.膜层太厚

B.膜层太薄

C.膜层表面粗糙或存在缺陷

D.膜层折射率选择不当

10.化学气相沉积（CVD）技术的主要特点是（）。

A.沉积速率通常较快

B.对基板温度要求通常较低

C.设备成本相对较低

D.易于沉积金属薄膜

二、填空题（每空1分，共10分。请将答案填写在横线上。）

1.光学薄膜的基本特性包括光学特性（如反射率、透射率、反射光谱等）、力学特性（如硬度、附着力、应力等）和热学特性等。

2.磁控溅射根据磁场形式不同，主要分为直流磁控溅射和脉冲磁控溅射。

3.在光学薄膜设计中选择材料时，必须考虑材料的折射率和消光系数。

4.空气/薄膜/玻璃界面处的反射率计算需要用到菲涅尔公式。

5.为了获得高透光率的增透膜，通常选择折射率介于基底和空气之间的材料，且其光学厚度为入射光在该介质中波长的四分之一。

6.影响光学薄膜性能的主要工艺参数包括沉积速率、基板温度、气压、工作距离等。

7.光学薄膜的应力分为张应力（正应力）和压应力（负应力）。

8.离子辅助沉积（IAD）技术是在沉积过程中引入离子束轰击基板，可以改善膜层附着力、硬度等性能。

9.光学膜系设计的基本原理是利用光的干涉效应，通过合理选择膜层材料和厚度，使特定波段的反射或透射达到预定要求。

10.增透膜通常在可见光波段具有多个中心波长，称为多波段增透膜。

三、简答题（每题5分，共25分。请简要回答下列问题。）

1.简述光学薄膜的增透原理及其应用场合。

2.与真空蒸发技术相比，磁控溅射技术具有哪些主要优点？

3.解释什么是光学薄膜的应力，并简述应力对薄膜性能可能产生的影响。

4.在光学薄膜沉积过程中，如何控制膜层厚度均匀性？

5.简述影响光学薄膜附着力的主要因素。

四、计算题（共35分。请列出计算步骤，并给出最终结果。）

1.（10分）设计一个在波长λ=550nm处具有90%透射率的单层增透膜，涂覆在折射率nsubg/sub=1.52的玻璃基底上。假设薄膜材料折射率nsubf/sub=1.38。试计算该增透膜的厚度应为多少？空气中光线的入射角为0°（垂直入射）。

2.（10分）现有空气/膜层1/膜层2/玻璃（nsubg/sub=1.6）三层结构。膜层1材料折射率nsub1/sub=2.1，厚度dsub1/