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氮化硅透明光学薄膜：制备工艺、特性及应用的深度剖析

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代光学领域，随着光电器件不断向高性能、小型化、集成化方向发展，对光学材料的性能提出了更高要求。氮化硅透明光学薄膜作为一种新型的功能材料，因其具备独特的光学、电学、力学及化学性能，在光通信、光存储、光显示、太阳能电池等众多光电器件中展现出不可或缺的地位，对推动光电器件性能提升及应用拓展具有深远意义。

从光学性能上看，氮化硅薄膜具有较高的折射率（一般在1.8-2.5之间，具体数值取决于制备工艺和化学计量比），这一特性使其在抗反射涂层、光波导等应用中发挥关键作用。在抗反射涂层方面，通过精确控制氮化硅薄膜