多片式MOCVD温度控制系统的算法优化与应用研究
一、引言
1.1研究背景与意义
在半导体领域,多片式MOCVD(金属有机化学气相沉积,Metal-OrganicChemicalVaporDeposition)技术凭借其独特优势,成为制备高质量半导体材料的关键手段,在光电子、光伏以及半导体器件等众多领域发挥着不可或缺的作用。例如,在半导体照明产业中,通过MOCVD技术制备的氮化镓(GaN)基发光二极管(LED),实现了高效率、高亮度的蓝光、绿光、红光LED的制备,极大地推动了半导体照明产业的发展。在光电子器件领域,MOCVD技术也广泛应用于激光器、光探测器、光纤通信器
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