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- 2026-01-29 发布于广东
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一、深度剖析国家新标战略意图:YS/T1744-2025如何重塑半绝缘砷化镓衬底产业竞争格局与未来技术路线图?
二、专家视角解构核心参数“半绝缘性”:电阻率、均匀性与热稳定性的技术门槛与产业意义深度解读。
三、晶格完美性的多维审视:从位错密度到表面取向,标准如何定义高质量砷化镓单晶衬底的“完美”尺度?
四、几何尺寸与形貌的精密控制哲学:直径、厚度、弯曲度、翘曲度参数背后的制造工艺挑战与器件适配逻辑。
五、表面质量:从微观粗糙度到宏观缺陷,标准中的洁净与完美如何保障高端射频与光电芯片的良率?
六、化学成分与杂质控制的“ppm战争”:(2026年)深度解析标准对关键掺杂元素
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