宣贯培训(2026年)《GBT 19922-2005硅片局部平整度非接触式标准测试方法》长文.pptxVIP

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目录

一、迈向芯片性能极限的基石：专家深度剖析GB/T19922-2005标准在先进制程硅片平整度管控中的核心价值与时代意义

二、从原理到设备：深度拆解非接触式测量技术体系，解析标准中光学干涉法等关键方法的科学内涵与实现路径

三、定义、术语与数学模型的权威解码：构建清晰严谨的硅片局部平整度评价语言体系与量化分析框架

四、“局部”的精确界定与科学分区：专家视角深入解读标准中局部区域尺寸、步进模式及测量点布设策略的考量

五、步步为营的标准化操作指南：深度剖析从环境准备、设备校准到数据采集的全流程规范与关键控制点

六、从原始数据到精准报告：深度解读数据处理算法、局部平整度参数计算及测量不