探秘SiCMOS界面:氮等离子体改性机制与电学特性的深度剖析
一、绪论
1.1研究背景与意义
在当今科技飞速发展的时代,半导体材料及器件的性能对众多领域的进步起着关键作用。碳化硅(SiC)作为第三代半导体材料的杰出代表,凭借其优异的热稳定性、高电子迁移率、高辐照抗性等一系列卓越特性,在高温、高功率、高频和高压等应用场景中展现出巨大的潜力,成为了研究与应用的热点。
在众多基于SiC的器件中,SiC金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)占据着举足轻重的地位,是一种极为重要的SiC功率器件。在新能源汽车领域,其被广泛应用于车载充电器(OBC)、电机驱动器等核心部件。在OBC
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