原创力文档电子束曝光操作概要
（EBL，ElectronBeamLithography）
1、扫描电子束曝光系统简介
ZeissSUPRA55扫描电子显微镜
热场发射电子枪：ZrO/W灯丝；高分辨率：0.8nm@15kV，1.6nm@1k；
放大倍数：12~1,000,000×；加速电压：0.02~30kV；
EBLRaithELPHYQuantum图形发生器
样片尺寸：最大为20×20mm；
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