磁控溅射法制备氮化钛薄膜：结构、电性能及工艺优化研究.docx

磁控溅射法制备氮化钛薄膜：结构、电性能及工艺优化研究

一、引言

1.1研究背景与意义

氮化钛（TiN）薄膜作为一种重要的材料，在材料科学与工程领域中占据着关键地位。它属于过渡金属氮化物，由离子键、金属键和共价键混合而成，独特的电子结构赋予了其众多优异特性。在物理性质方面，氮化钛薄膜具有高熔点，其熔点高达2930℃，这使其能够在高温环境下保持稳定的结构和性能，适用于航空航天、冶金等高温领域的应用；硬度极高，维氏硬度可达2000-2500HV，良好的硬度特性使其在切削工具、耐磨涂层等方面发挥着重要作用；热导率约为30W/（m?K），具备良好的热传导能力，可用于散热部件或对热性能