CN109313386A 压印光刻印模的制作和使用方法 （皇家飞利浦有限公司）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(43)申请公

(10)申请公布号CN109313386A布日2019.02.05

(21)申请号201780034665.6

(22)申请日2017.04.06

(30)优先权数据92016.04.06EP

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2018.12.04

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/EP2017/0583092017.04.06

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2017/174755EN2017.10.12

(71)申请人皇家飞利浦有限公司地址荷兰艾恩德霍芬

(72)发明人M·A·维尔斯储雷恩

(74)专利代理机构永新专利商标代理有限公司

72002

代理人王英刘炳胜

(51)Int.CI.

GO3F7/00(2006.01)

权利要求书5页说明书27页附图3页

(54)发明名称

压印光刻印模的制作和使用方法

(57)摘要

CN109313386A公开了一种用于压印光刻工艺的印模(14),所述印模包括弹性体印模主体，所述弹性体印模主体包括聚硅氧烷主体部分(110)和图案化表面，所述图案化表面包括用于对压印成分(12)进行压印的特征图案(16),其中，所述弹性体印模主体包含碱性有机胺，其量基于弹性体印模主体的总重量为至少0.1%重量比。还公开了制造这

CN109313386A

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CN109313386A权利要求书1/5页

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1.一种用于压印光刻工艺的印模(14),所述印模具有弹性体印模主体，所述弹性体印模主体包括有机聚合物块体部分(110)和图案化表面，所述图案化表面具有用于对压印成分(12)进行压印的浮雕特征图案(16),

其中，所述弹性体印模主体包含一定量的至少一种碱性有机基团，所述至少一种碱性有机基团在与所述图案化表面接触时能够刺激所述压印成分的凝固。

2.根据权利要求1所述的印模，其中，所述碱性有机基团是具有至少一个施主原子的不带电的路易斯碱，所述至少一个施主原子选自包括氧、氮、硫和磷的组。

3.根据权利要求2所述的印模，其中，所述施主原子是氮原子。

4.根据权利要求1或2所述的印模，其中，所述碱性有机基团的pKa在8至12之间。

5.根据权利要求3或4所述的印模，其中，所述碱性有机基团包括根据分子式8的结构：

分子式8

其中，N是施主原子，R?-R?单独地选自氢、未取代或取代的C?-C2?烷基、未取代或取代的C?-C?0烯基、未取代或取代的C?-C?0炔基、未取代的或取代的C?-C?0环烷基、未取代或取代的C4-C?0环烯基、未取代或取代的C?-C20杂环基、未取代或取代的C?-C?0芳基、未取代或取代的C?-C?0烷基芳基、未取代或取代的C4-C?0杂芳基，条件是R?-R?不是全氢，其中，R?-R?中的至少两个能够构成相同的未取代或取代的C?-C?0环烷基、未取代或取代的C4-C20环烯基、未取代的或取代的C?-C?0杂环基、未取代或取代的C?-C?0芳基或未取代或取代的C?-C?0杂芳基的一部分。

6.根据权利要求5所述的印模，其中，R?-R?单独地选自氢、未取代或取代的直链C?-C?0烷基或支链C?-C?0烷基、未取代或取代的C?-C?0烯基、未取代或取代的C?-C20炔基、未取代或取代的C?-C?0环烷基、未取代或取代的C4-C?0环烯基、未取代或取代的C?-C20杂环基、未取代或取代的C?-C?0芳基、未取代或取代的C?-C?0烷基芳基、未取代或取代的C4-C?0杂芳基，条件是R?-R?中只有一个是氢，优选地，其中，R?-R?单独地选自氢、未取代或取代的直链C?-C?0烷基或支链C?-C20烷基或未取代或取代的C?-C?0烷基芳基，条件是R?-R?中只有一个是氢。

7.根据权利要求6所述的印模，其中，R?-R?单独地选自未取代或取代的直链C?-C20烷基或支链C?-C20烷基、未取代或取代的C?-C?0烯基、未取代的或取代的C?-C20炔基、未取代或取代的C?-C20环烷基、未取代