原创力文档苏州苏大维格科技集团股份有限公司
全球领先的微纳解决方案提供商
先进的SLM+PLM组合光学架构
基于高精度DMD的SLM空间光调制激光直写和PLM相位调制
支持500nm分辨率的任意图形和100nm的特征图形光刻
频闪平铺光斑曝光FlashTileBeamLithography,FTBL
运行效率比传统采用RasterScanning的激光直写系统提高数倍以上
多写入模式（频闪光斑平铺曝光、灰度曝光、拖曳扫描和矢量扫描）的选择能够针对
不同的应用需求优化图形与微结构的性能
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