CN101146874B 多孔质膜的前体组合物及其制备方法、多孔质膜及其制作方法以及半导体装置 (株式会社爱发科).docxVIP

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CN101146874B 多孔质膜的前体组合物及其制备方法、多孔质膜及其制作方法以及半导体装置 (株式会社爱发科).docx

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN101146874B

(45)授权公告日2012.08.15

(21)申请号200680009348.0

(22)申请日2006.03.17

(30)优先权数据

08420603.23JP

(85)PCT申请进入国家阶段日

2007.09.21

(86)PCT申请的申请数据

PCT/JP2006/3053502006.03.17

(87)PCT申请的公布数据

WO2006/101027JA2006.09.28

(73)专利权人株式会社爱发科地址日本神奈川

专利权人独立行政法人产业技术综合研究所

(72)发明人藤井宣年中山高博金山敏彦高村一夫田中博文

(74)专利代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038

代理人陈昕

(51)Int.CI.

C09DCO9DHO1L

7/12(2006.01)183/00(2006.01)21/316(2006.01)

(56)对比文件

US2004/0180554A1,2004.09.16,说明书实施例1-2,表1-2.

CN1345464A,2002.04.17,说明书第

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