CN101221961A 像素结构及其制作方法 （友达光电股份有限公司）.docxVIP

[19]中华人民共和国国家知识产权局

[12]发明专利申请公布说明书

[21]申请号200810004549.2

[51]Int.Cl.

HO1L27/12(2006.01)HO1L23/522(2006.01)HO1L21/84(2006.01)HO1L21/768(2006.01)GO2F1/1362(2006.01)

[43]公开日2008年7月16日[11]公开号CN101221961A

[22]申请日2008.1.22

[21]申请号200810004549.2

[71]申请人友达光电股份有限公司地址台湾省新竹市

[72]发明人陈茂松石志鸿江怡祺

[74]专利代理机构北京三友知识产权代理有限公司代理人汤在彦

权利要求书3页说明书7页附图10页

[54]发明名称

像素结构及其制作方法

[57]摘要

本发明提出一种像素结构及其制作方法，该像素结构包括：一基板、一浮置的遮光图案设于基板上、一绝缘层设于该基板与该遮光图案上、一数据线设于遮光图案的上方并对应遮光图案、一介电层设于数据线与绝缘层上，以及一第三层导电图案设置于介电层上。第三层导电图案包含一共通线及一共通图案，其中共通图案具有两支线，两支线之间