《精细陶瓷 采用平行X射线束X射线衍射法测定单晶薄膜（晶圆）结晶质量的方法》标准立项与发展报告.docxVIP

《精细陶瓷采用平行X射线束X射线衍射法测定单晶薄膜（晶圆）结晶质量的方法》标准立项与发展报告

EnglishTitle:StandardizationDevelopmentReporton“FineCeramics(AdvancedCeramics,AdvancedTechnicalCeramics)—MethodforDeterminingCrystallographicQualityofSingleCrystalThinFilms(Wafers)byParallelX-rayBeamX-rayDiffraction”

摘要

随着宽禁带半导体（如碳化硅SiC、氮化镓GaN）、激光晶体、压电材料及光学窗口等单晶薄膜材料在电力电子、光电子、射频通信、航空航天等高新技术领域的广泛应用，其结晶质量（即晶体缺陷密度与完整性）直接决定了器件的性能、可靠性与良率。单晶薄膜通常以晶圆形式存在，其直径不断增大（从2英寸到6英寸乃至更大），对大面积、无损、快速且准确的结晶质量评估方法提出了迫切需求。平行X射线束X射线衍射法（XRD）是目前表征大面积单晶薄膜结晶质量最典型、最有效的非破坏性方法之一，其通过分析衍射峰的半高宽（摇摆曲线）来量化晶体缺陷程度。然而，当前行业内缺乏统一的测试标准，导致测试过程、条件设置、样品制备及数据分析存在较大差