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国产MOCVD设备的特点、性能和发展趋势.pdf

国产MOCVD设备的特点、性能和发展趋势.pdf

    提纲

    一、前言

    二、MOCVD设备的特点

    三、用第一代MOCVD设备生长的GaN材料

    、第二代MOCVD设备的设计要点

    五、发展趋势

    六、设备生产及相关问题

    一、前言Liscas4

    •MOCVD是GaAs、InP材料的核心生长技术，特别是GaN—

    LED和LD的主流方法。

    •随着《国家半导体照明工程》启动，研制国产化MOCVD设

    备已迫在

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