铸锭多晶硅和非晶硅薄片的概述及生产工艺.docxVIP

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  • 2026-03-04 发布于江苏
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铸锭多晶硅和非晶硅薄片的概述及生产工艺.docx

一、多晶硅锭产业背景

太阳能电池产业是近几年发展最快的产业之一,最近5年来以超过50%的速度高速增长。

在各种类型的太阳能电池中,晶体硅太阳电池由于其转换效率高,技术成熟而继续保持领先地位,占据了90%以上的份额,预计今后十年内晶体硅仍将占主导地位。

太阳能电池产业的飞速发展,带动硅锭/硅片的需求也大增,特别是多晶硅硅锭的生产向大规模化发展,单厂生产能力已达到百兆瓦级。

虽然目前单晶硅的转换效率比多晶硅高,但两者的差距正逐渐缩短,多晶硅具有制造成本较低与单位产出量较大的优势,故多晶硅芯片在太阳能产业中未来仍将扮演主流角色。

二、多晶硅锭的组织结构

太阳能电池多晶硅锭是一种柱状晶,晶体生长方向垂直向上,是通过定向凝固(也称可控凝固、约束凝固)过程来实现的,即在结晶过程中,通过控制温度场的变化,形成单方向热流(生长方向与热流方向相反),并要求液固界面处的温度梯度大于0,横向则要求无温度梯度,从而形成定向生长的柱状晶。

一般来说,纯金属通过定向凝固,可获得平面前沿,即随着凝固进行,整个平面向前推进,但随着溶质浓度的提高,由平面前沿转到柱状。对于金属,由于各表面自由能一样,生长的柱状晶取向直,无分叉。而硅由于是小平面相,不同晶面自由能不相同,表面自由能最低的晶面会优先生长,特别是由于杂质的存在,晶面吸附杂质改变了表面自由能,所以多晶硅柱状晶生长方向不如金属的直,且伴有分叉。

三、定向凝固时硅中杂质的分凝

太阳能电池硅锭的生长也是一个硅的提纯过程,是基于杂质的分凝效应进行的。如下图所示,一杂质浓度为C0的组分,当温度下降至T’’时,其固液界面处固相侧的杂质浓度为C*S。

对一个杂质浓度非常小的平衡固液相系统,在液固界面处固相中的成分与在液相中的成分比值为一定,可表达为平衡分配系数K=C*S/C*L其中,C*L液固界面处液相侧溶质浓度C*S液固界面处固相侧溶质浓度金属杂质在硅中平衡分配系数在10-4—10-8之间,B为0.8,P为0.35。

实际生产中固液界面还存在一个溶质富集层,杂质的分配系数还与该富集层的厚度、杂质的扩散速度、硅液的对流强度及晶体生长速度均有关,引入有效分配系数K’来表示:

K’=K/[K+(1-K)exp(-Rδ/DL)]

式中:K’有效分配系数,

K平衡分配系数,

R生长速度cm/s,

δ溶质富集层厚度(固液界面的扩散层)cm(0.005-0.05),

DL扩散系数cm2/s。

R或δ趋近于0,K’趋近于K时,最大程度提纯。

R趋近于∞,K’趋近于1时,无提纯作用。

四、多晶硅锭定向凝固生长方法

实现多晶硅定向凝固生长的四种方法:

布里曼法

热交换法

电磁铸锭法

浇铸法

1、布里曼法(BridgemanMethod)

这是一种经典的较早的定向凝固方法。

特点:

坩埚和热源在凝固开始时作相对位移,分液相区和凝固区,液相区和凝固区用隔热板隔开。

液固界面交界处的温度梯度必须0,即dT/dx0,温度梯度接近于常数。

长晶速度受工作台下移速度及冷却水流量控制,长晶速度接近于常数,长晶速度可以调节。

硅锭高度主要受设备及坩埚高度限制。

生长速度约0.8-1.0mm/分。

缺点:炉子结构比热交换法复杂,坩埚需升降且下降速度必须平稳,其次坩埚底部需水冷。

2、热交换法

约在65%~70%之间。而采用熔体直拉法制备单晶硅棒,原生多晶硅的利用率大约只有40%~60%。

另一方面,铸锭多晶硅的生产周期大约460公斤每60小时,5.17公斤每小时,是单晶方棒1.30公斤每小时的4倍。

可见采用多晶铸锭法制备多晶硅锭,进而加工硅片,制造成本的优势是显而易见的。

六:多晶硅铸锭产业链

多晶硅薄膜

1.非晶半导体的特点

1.1什么是非晶态半导体?

非晶态半导体:包括所有不是晶态的半导体。与晶态半导体材料相比,非晶态半导体材料的原子在空间排列上失去了长程有序性,但其组成原子也不是完全杂乱无章地分布的。由于受到化学键,特别是共价键的束缚,在几个原子的微小范围内,可以看到与晶体非

常相似的结构特征。所以,一般将非晶态材料的结构描述为:“长程无序,短程有序”

1.2非晶态半导体不同于晶态半导体的特点

与晶态半导体相比,非晶态半导体的特点是:

晶态半导体非晶态半导体

晶格周期性(长程序)短程序(20~30?)

点(单晶)

X光和电子衍射模糊晕环(包括微晶200?)

环(多晶)

电子态为能带所表征带尾和定域能隙态的出现

1.3非晶硅的结构特点

用来描述非晶硅的结构模型

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