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基于DMD的无掩模光学投影纳米光刻技术：原理、应用与挑战

一、引言

1.1研究背景与意义

光刻技术作为现代微纳制造领域的核心技术之一，在过去几十年中取得了飞速发展，对人类社会的科技进步和经济发展产生了深远影响。从早期的接触式光刻到如今的极紫外光刻，光刻技术不断突破分辨率极限，为集成电路、微机电系统（MEMS）、光电器件等众多领域的发展提供了关键支撑。在集成电路制造中，光刻技术的分辨率直接决定了芯片上晶体管的尺寸和集成度，进而影响芯片的性能和功耗。随着摩尔定律的不断推进，对光刻技术的分辨率和精度要求也越来越高。

基于数字微镜器件（DigitalMicromirrorDevice，DMD）的