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双响应可降解光刻胶：制备、性能与多元应用探索

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代科技飞速发展的进程中，半导体产业作为信息技术的核心支柱，其重要性不言而喻。从智能手机、电脑等日常电子设备，到航空航天、人工智能等高端领域，半导体器件无处不在，支撑着现代社会的高效运转。而光刻胶，作为半导体制造过程中不可或缺的关键材料，宛如基石之于高楼，对整个半导体产业的发展起着决定性作用。

光刻胶，又称光致抗蚀剂，主要由感光树脂、增感剂和溶剂等成分构成。在光刻工艺里，光刻胶被均匀涂覆于硅片表面，经特定波长的光线或电子束照射后，其溶解度会发生显著变化。通过曝光、显影等关键步骤，光刻胶能够将掩模版上的精细电路图