CN107430059B 显微光谱分析用试样台的制作方法 （株式会社东丽分析研究中心）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利

公

公

(45)授权

(10)授权公告号CN107430059B告日2019.03.26

(21)申请号201680009345.0

(22)申请日2016.03.07

(65)同一申请的已公布的文献号申请公布号CN107430059A

(43)申请公布日2017.12.01

(30)优先权数据

2015-0755942015.04.02JP

2015-2114802015.10.28JP

2015-2381832015.12.07JP

(85)PCT国际申请进入国家阶段日

2017.08.08

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/JP2016/0569932016.03.07

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2016/158221JA2016.10.06

(73)专利权人株式会社东丽分析研究中心地址日本东京都

(72)发明人森胁博文小川美由纪

(74)专利代理机构北京市金杜律师事务所11256

代理人杨宏军焦成美

(51)Int.CI.

GO1N21/01(2006.01)

(56)对比文件

CN1509360A,2004.06.30,全文.

JP2010175338A,2010.08.12,全文.JP2008203020A,2008.09.04,全文.US5334837A,1994.08.02,全文.

CN101815796A,2010.08.25,全文.审查员孙勐

权利要求书1页说明书4页附图5页

(54)发明名称

显微光谱分析用试样台的制作方法

(57)摘要

CN107430059B本发明涉及使用光学材料的显微光谱分析用试样台的制作方法，其特征在于，在使具有拒水性或拒油性的含全氟烷基聚醚基的硅烷化合物溶解于溶剂而形成的液体中浸渍光学材料，浸渍后对光学材料进行加热，接着清洗光学材料，

CN107430059B

CN107430059B权利要求书1/1页

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1.使用光学材料的显微光谱分析用试样台的制作方法，其特征在于，在使具有拒水性或拒油性的由下述结构式(I)表示的含有全氟烷基聚醚基的硅烷化合物溶解于溶剂而成的液体中浸渍光学材料，浸渍后对光学材料进行加热，接着清洗光学材料，使光学材料的表面被表面改性成拒水性或拒油性，

[化学式1]

式(I)中，a为1～30的整数，b为1～10的整数，c为1～20的整数，d为1～10的整数，e为1~20的整数，h为0～10的整数，g为0～20的整数，n为1～320的整数，m及p之和为3。

2.如权利要求1所述的显微光谱分析用试样台的制作方法，其中，所述光学材料包含选自硅、锗、蓝宝石、氟化钙、氟化钡、硒化锌及金刚石中的一种以上。

3.如权利要求1或2所述的显微光谱分析用试样台的制作方法，其中，所述溶剂包含选自醇类、酮类、醚类、醛类、胺类、脂肪酸类、酯类及腈类中的一种以上，并且，所述溶剂是经氟改性的溶剂。

4.如权利要求1所述的显微光谱分析用试样台的制作方法，其特征在于，进一步使用前端直径2～10μm的针将试样挤碎。

5.如权利要求1所述的显微光谱分析用试样台的制作方法，其中，在所述光学材料的被改性的一侧的表面，具有由线宽为1～1000μm的直线或曲线封闭的、能够在内侧蓄积溶液的区域，所述区域的面积为0.001～10mm2。

6.如权利要求5所述的显微光谱分析用试样台的制作方法，其中，所述区域的所述直线或曲线具有凸部高度，其凸部高度为0.001～1μm。

7.如权利要求5或6所述的显微光谱分析用试样台的制作方法，其中，所述区域的所述直线或曲线具有凹部深度，其凹部深度为0.001～1μm。

8.如权利要求1所述的显微光谱分析用试样台的制作方法，其中，在所述光学材料的被改性的一侧的表面，具有宽0.01～1mm且深0.001～0.1mm的槽或者直径0.01～1mm且深0.001～0.1mm的凹部。

CN107430059B说明书