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- 2026-03-12 发布于重庆
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(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN102629624A
(43)申请公布日2012.08.08
(21)申请号201210131041.5
(22)申请日2012.04.29
(71)申请人西安电子科技大学
地址710071陕西省西安市太白南路2号
(72)发明人张进成张琳霞郝跃马晓华王冲霍晶艾姗党李莎
孟凡娜姜腾赵胜雷
(74)专利代理机构陕西电子工业专利中心
61205
代理人王品华朱红星
(51)Int.CI.
HO1L29/778(2006.01)
HO1L29/06(2006.01)
HO1L21/336(2006.01)
权利要求书2页说明书10页附图2页
(54)发明名称
基于GaN的MIS栅增强型HEMT器件及制作方法
棚极10
棚极10介质7
漏9
A1GaN次势垒层
CaN冲层5
第二导电沟道17
势垒层KEALGaA主势鱼层少
e饮皱”
冲层5请整ZTE层15
第三2DBGGaN主缓冲层3层14
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