1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 文档分类
  4. 电子工程/通信技术
  5. 光网络传输

CN111007695B 光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法 （台湾积体电路制造股份有限公司）.docxVIP

  • 1
  • 0
  • 约2.93万字
  • 约 51页
  • 2026-03-12 发布于山西
  • 举报

CN111007695B 光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法 （台湾积体电路制造股份有限公司）.docx

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利

    (10)授权公告号CN111007695B

    (45)授权公告日2025.06.06

    (21)申请号201910950704.8

    (22)申请日2019.10.08

    (65)同一申请的已公布的文献号申请公布号CN111007695A

    (43)申请公布日2020.04.14

    (30)优先权数据

    62/742,7732018.10.08US

    16/584,2342019.09.26US

    (73)专利权人台湾积体电路制造股份有限公司地址中国台湾新竹市

    (72)发明人何俊智张庆裕林进祥

    (74)专利代理机构北京东方

    您可能关注的文档

    最近下载

    文档评论（0）

    1亿VIP精品文档

    更多 >

    相关文档

    更多 >