CN102331593A 高占空比自支撑纳米透射光栅及其制作方法 （西北工业大学）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN102331593A

(43)申请公布日2012.01.25

(21)申请号201110190019.3

(22)申请日2011.07.07

(71)申请人西北工业大学

地址710072陕西省西安市友谊西路127号

(72)发明人马志波姜澄宇苑伟政

(74)专利代理机构西北工业大学专利中心

61204

代理人吕湘连

(51)Int.CI.

GO2B5/18(2006.01)

GO3F7/00(2006.01)

权利要求书2页说明书4页附图4页

(54)发明名称

高占空比自支撑纳米透射光栅及其制作方法

(57)摘要

CN102331593A本发明公开了一种高占空比自支撑纳米透射光栅及其制造方法，属于微机电系统(MEMS)领域。该光栅包括纳米透射光栅支撑结构1、纳米透射光栅栅线固定结构2、纳米透射光栅栅线3,以及金吸收体4。其制作方法包括纳米光栅掩模版制作以及纳米透射光栅制作两部分，首先基于普通光刻机在一次套刻的工艺条件下，对微米级线条进行部分曝光，刻蚀金属，将微米级线条变为纳米级线条，实现纳米级结构尺寸的图形转换，再经过一次套刻工艺，实现高占空比纳米光栅掩模版