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- 2026-03-17 发布于浙江
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一、十五五风云再起:为何说半导体材料是国产化“深水区”的最后一道关卡?
二、大硅片突围战:从12英寸迈向18英寸,国产大硅片的“弯道超车”机会窗口在哪里?
三、光刻胶的破局时刻:ArF、EUV材料技术瓶颈与产业链协同创新的“华山一条路”
四、湿电子化学品的“纯度战争”:半导体工艺制程演进下,高纯试剂与气体的国产化替代攻坚战
五、第三代半导体的材料基石:碳化硅与氮化镓衬底、外延片的产业化痛点与投资新范式
六、电子特气的“芯片血脉”:从产能过剩疑云看高纯、混合特气在先进制程中的不可替代性
七、靶材与CMP浆料的“微观世界”:平坦化革命下,消耗品如何
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