基底对TiO₂薄膜负载特性与光催化性能的影响机制探究.docxVIP

基底对TiO?薄膜负载特性与光催化性能的影响机制探究

一、引言

1.1研究背景与意义

随着工业化进程的加速，环境污染和能源短缺问题日益严峻，成为全球关注的焦点。光催化技术作为一种环境友好型技术，在环境污染治理和新能源开发领域展现出巨大的应用潜力。在众多光催化材料中，TiO?以其化学性质稳定、催化活性高、成本低廉、无毒无害以及抗光腐蚀性强等诸多优点，成为了光催化领域的研究热点和应用首选。

TiO?是一种宽带隙半导体材料，其禁带宽度为3.0-3.2eV，在光催化反应中，当TiO?受到能量大于其禁带宽度的光照射时，价带中的电子会被激发跃迁到导带，从而在价带中留下空穴，形成光生电子-空