CN111952215B 基片处理装置和基片处理方法 (东京毅力科创株式会社).docxVIP

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  • 2026-03-21 发布于山西
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CN111952215B 基片处理装置和基片处理方法 (东京毅力科创株式会社).docx

(19)国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN111952215B

(45)授权公告日2025.06.27

(21)申请号202010371679.0

(22)申请日2020.05.06

(65)同一申请的已公布的文献号申请公布号CN111952215A

(43)申请公布日2020.11.17

(30)优先权数据

2019-0916002019.05.14JP

(73)专利权人东京毅力科创株式会社地址日本东京都

(72)发明人天野嘉文相浦一博

(74)专利代理机构北京尚诚知识产权代理有限公司11322

专利代理师龙淳徐飞跃

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