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印迹技术研究文献综述

目录

TOC\o1-3\h\u30412印迹技术研究文献综述 1

91461.1离子印迹技术 1

89091.2分子印迹膜 2

84251.3离子印迹膜 2

199121.4离子印迹聚合物的设计与制备 2

179261.5离子印迹设计原理 4

172641.6阴离子印迹聚合物 5

12466参考文献 6

分子印迹技术（molecularimprintingtechnology，简称MIT）始于1931年，Polyakov[35]在用一种新方法制备二氧化硅颗粒时，发现其具有非同寻常的吸附特性，并首次提出分子印迹的概念，这一工作为分子印迹聚合物的发展奠定了一定的理论基础；1949年，Dickey[36]在合成硅胶吸附剂时提出了“专一性吸附”的概念，这可以视为“分子印迹”特异性吸附的萌芽；直到1972年，德国的Wulff[37]研究小组第一次报道了利用印迹分子和功能单体之间的共价作用首次制备出的分子印迹聚合物，分子印迹才越来越得到学术界的关注；1993年瑞典Lund大学的Mosbach[38]团队在《Nature》上发表一篇有关于茶碱分子印迹聚合物的研究报道后，分子印迹技术便迅速成为国内外的学术研究热点[39-41]。简要的印迹技术发展历史如图1-4所示。

1.1离子印迹技术

离子印迹技术作为