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- 2026-03-22 发布于上海
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多孔SnO?-Cu?O复合薄膜:制备工艺与光催化性能的深度剖析
一、引言
1.1研究背景与意义
随着工业化和城市化的快速发展,环境污染问题日益严重,如水体污染、空气污染等,对人类健康和生态平衡构成了巨大威胁。光催化技术作为一种环境友好且具有潜力的绿色技术,在环境治理领域展现出了独特的优势,受到了广泛关注。该技术利用半导体光催化剂,在光照条件下产生电子-空穴对,这些电子和空穴能够与吸附在催化剂表面的物质发生氧化还原反应,将有机污染物分解为无害的小分子物质,如二氧化碳和水,从而实现对污染物的降解和净化。与传统的物理和化学处理方法相比,光催化技术具有反应条件温和、能耗低、无二次污染等优点,在污水处理、空气净化、消毒杀菌等方面具有广阔的应用前景。
在众多的半导体光催化剂中,SnO?和Cu?O因其独特的物理化学性质而备受瞩目。SnO?是一种宽带隙半导体,具有较高的化学稳定性、良好的光学和电学性能,在光催化领域有一定的应用。然而,其光生载流子复合率较高,导致光催化效率受到限制。Cu?O是一种p型半导体,具有合适的禁带宽度(约2.0-2.2eV),能够吸收可见光,但其单独使用时也存在一些问题,如光腐蚀和稳定性较差。将SnO?和Cu?O复合形成多孔SnO?-Cu?O复合薄膜,有望综合两者的优点,实现优势互补。多孔结构能够提供更大的比表面积,增加光催化剂与
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