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光刻机行业市场规模及市场发展前景分

析

一、光刻技术是实现先进制程的关键设备

光刻机应用广泛，包括IC前道光刻机、用于封装的后道光刻

机及用于LED领域及面板领域的光刻机等等.封装光刻机对于光

刻的精度要求低于前道光刻要求，面板光刻机与IC前道光刻机工艺

相比技术精度也更低，一般为微米级.IC前道光刻机技术最为复杂,

光刻工艺是TC制造的核心环节，利用光刻技术可将掩模版上的芯

片电路图转移到硅片上.光刻机是一种投影曝光系统，包括光源、光

学镜片、对准系统等.在制造过程中，通过投射光束，穿过掩膜板和

光学镜片照射涂敷在基底上的光敏性光刻胶，经过显影后可将电

路图最终转移到硅晶圆上.

光刻工艺步骤繁多

光刻工艺步骤繁多

EUV光刻机设备十分复杂

EUV光刻机设备十分复杂

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