基于直接感光法的PLZT薄膜图形制备与性能优化研究.docx

基于直接感光法的PLZT薄膜图形制备与性能优化研究

一、引言

1.1研究背景

在现代材料科学与技术的飞速发展进程中，铁电材料凭借其独特的物理性能，在众多领域展现出了巨大的应用潜力。锆钛酸铅镧（PLZT）薄膜作为一种典型的铁电材料，近年来受到了广泛的关注和深入的研究。

PLZT薄膜是在锆钛酸铅（PZT）的基础上，通过掺杂镧元素（La）而形成的。这种元素的引入，极大地改善了PZT薄膜的性能，使其具备了许多优良的特性。从铁电性能来看，PLZT薄膜具有较高的剩余极化强度和较低的矫顽场强，这使得它在非挥发性存储器（FeRAM）等领域有着重要的应用前景。在FeRAM中，数据以铁电材料的极化